治疗理念丨上颌窦底提升同期种植体植入
Prof.Yong-DaeKwon
(韩国，首尔)
临床挑战：
一位中年男性来到诊所要求种植修复。全景放射线片显示右上颌窦有朦胧阴影。实施锥形束CT扫描（CBCT）进一步评估，存在一射线不能透过的穹状区域。放射学光片显示上颌窦内假性囊肿。在第一磨牙区域，剩余骨高度足以避免使用侧壁开窗方法。但是第一磨牙区残留牙槽嵴的形态和窦假性囊肿的存在对于经牙槽嵴顶上颌窦底提升并不是有利的指标。
目的/方法：
为了确认射线不透性是无症状的窦假性囊肿，计划通过侧壁开窗进行上颌窦底提升。打开一个骨窗后，可以抽出带有淡黄色囊液的小囊性病变。手术过程中发现了上颌窦膜穿孔，用GeistlichBio-Gide?成功修补。
结论：
因为操作简单且对上颌窦膜有良好的贴附性，GeistlichBio-Gide?是修复穿孔十分理想的产品。应该对其进行适当的修剪和放置，以确保其铺开足以完全覆盖穿孔。
临床结果概述
目标
使用GeistlichBio-OssPen?和GeistlichBio-Gide?进行侧壁开窗上颌窦底提升。
在16和17位点植入种植体的同时进行骨增量。
从窦腔内负压吸出小囊性病变。
结论
不分阶段上颌窦底提升治疗。
使用GeistlichBio-OssPen?和GeistlichBio-Gide?可获得非常可靠的临床结果。
GeistlichBio-Gide?非常适合上颌窦膜穿孔的修复。
病例记录
1术前口内照显示临床情况。
2术前CBCT扫描中，发现一个上颌窦假性囊肿。
3在侧壁开窗准备后，可以看到穿孔的上颌窦膜。
4在穿孔的另一侧小心地抬高膜。
5在抬高穿孔周围的膜过程中，应避免穿孔扩大。
6上颌窦膜穿刺，抽出囊液。
7修剪GeistlichBio-Gide?以修复穿孔。在膜上部1/4处切出两个水平切口。将这上面1/4部分的膜放置在侧壁上的窦腔外。
8放置修剪过的GeistlichBio-Gide?以覆盖穿孔的上颌窦膜。GeistlichBio-Gide?上面的1/4部分置于窦腔外而下面的3/4部分被插入到窦腔内。
9将GeistlichBio-OssPen?简单快速地放入窦腔。请注意要用GeistlichBio-OssPen?的顶端将GeistlichBio-Gide?上面的1/4部分保持在恰当位置。
10骨窗被重新定位到原来的位置以覆盖侧壁开窗。
11术后全景放射片可见上颌窦底增加和同时植入的两颗种植体。
12最终修复后1年随访时的临床情况（镜像）。
扫描
